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一邊卷繞涂有磨粒的卷膜一邊進行拋光的技術介紹

  • 發(fā)布日期:2024-07-16      瀏覽次數:164
    • 一邊卷繞涂有磨粒的卷膜一邊進行拋光的技術介紹

      表面粗糙度是影響金剛石薄膜廣泛應用的主要因素, 選擇一種合適的拋光方式可以大幅度降低表面粗糙度, 以加速其商業(yè)化應用的進程。

      金剛石薄膜具有優(yōu)異的性能, 是刀具、模具材料的理想涂層, 隨著化學氣相沉積( CVD) 技術的發(fā)展, 運用這種技術合成的金剛石薄膜的生產成本顯著降低, 已經具有商業(yè)化的應用前景[1]。但常規(guī)金剛石薄膜的表面的取向、晶粒尺寸以及厚度都是不均勻的, 表面粗糙度也較高, 一般可達幾微米, 影響了金剛石薄膜的許多應用。例如, 金剛石薄膜涂層刀具和模具都要求有較高的表面光潔度,因而金剛石的后期加工技術( 包括拋光、平整、金屬化等)變得越來越重要。對于金剛石薄膜的拋光而言, 由于其硬度高, 化學性能穩(wěn)定, 且厚度較薄, 并且拋光過程中極易發(fā)生金剛石薄膜剝落, 因此金剛石薄膜的拋光問題已成為擴大金剛石薄膜應用的關鍵技術。

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      設備,可以通過標準操作達到所需的表面粗糙度。

      一邊卷繞涂有磨粒的卷膜一邊進行拋光的方法。
      可以進行持續(xù)穩(wěn)定的表面拋光,而不影響被拋光物體的尺寸精度。您

      只需根據所需的表面粗糙度選擇薄膜即可滿足高達Ra0.02微米的表面粗糙度要求。
      機身輕巧緊湊,易于安裝和拆卸,可
      輕松安裝在您現有的設備中。

      [特點]
      ■無需任何技巧,即可通過簡單的操作獲得穩(wěn)定的表面光潔度。 

      ■可自由處理所需的表面粗糙度。 

      ■易于安裝在設備中,不會影響拋光物體的尺寸精度。無需擔心不均勻的灰塵或劃痕
      ■ 保持清潔的工作環(huán)境



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